近日，國家科技重(zhong)大(da)(da)專(zhuan)項“極大(da)(da)規模集成電路制造裝(zhuang)備及(ji)成套工藝”部署的“90-65nm等離(li)子體增(zeng)強化(hua)學氣相沉積（PECVD）設備研發與應用”項目順利完成，實現(xian)了(le)(le)12英寸PECVD設備的國產化(hua)，填補(bu)了(le)(le)國內(nei)空白，提升了(le)(le)我國集成電路產業整體競爭(zheng)力(li)。
PECVD設(she)備是(shi)集成電(dian)路制(zhi)造的(de)(de)核(he)心設(she)備之一，技(ji)術(shu)難(nan)度大(da)，單臺(tai)價值高。一直以來，12英(ying)寸(cun)(cun)PECVD技(ji)術(shu)被歐美以及(ji)日本等國(guo)(guo)家(jia)所(suo)壟斷。在國(guo)(guo)家(jia)科技(ji)重(zhong)大(da)專(zhuan)項(xiang)(xiang)的(de)(de)部署及(ji)支持(chi)下(xia)，由企(qi)業與(yu)科研院(yuan)所(suo)聯(lian)合(he)研發(fa)，攻克了12英(ying)寸(cun)(cun)PECVD設(she)備的(de)(de)架構平(ping)臺(tai)設(she)計、薄膜(mo)(mo)工藝(yi)開發(fa)、仿真理論計算、設(she)備可靠性及(ji)工藝(yi)可重(zhong)復性、薄膜(mo)(mo)均勻性控制(zhi)、射頻技(ji)術(shu)等關鍵(jian)技(ji)術(shu)問題(ti)，申請了專(zhuan)利307項(xiang)(xiang)，建立了技(ji)術(shu)標(biao)準10項(xiang)(xiang)，12英(ying)寸(cun)(cun)等離子體(ti)增強(qiang)化學氣相(xiang)沉積（PECVD）設(she)備(PF-300)榮(rong)獲國(guo)(guo)家(jia)重(zhong)點新(xin)產品。產品通過了中芯國(guo)(guo)際(ji)12英(ying)寸(cun)(cun)晶圓制(zhi)造及(ji)蘇州晶方(fang)、華進半導體(ti)、華天科技(ji)的(de)(de)12英(ying)寸(cun)(cun)三維封裝的(de)(de)生(sheng)產驗證、采購認證與(yu)使用，各項(xiang)(xiang)指(zhi)標(biao)達(da)到國(guo)(guo)際(ji)水平(ping)，成本為國(guo)(guo)際(ji)設(she)備的(de)(de)70%。目前項(xiang)(xiang)目實現了7臺(tai)12英(ying)寸(cun)(cun)PECVD的(de)(de)銷售(shou)，另有(you)5臺(tai)設(she)備已經交付用戶，產品及(ji)服務得到了用戶的(de)(de)一致(zhi)認可。

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